金相制样时的抛光攻略及难点总结介绍

抛光是金相制备的重要一环，目的是去除细微磨痕，使材料表面成为光亮无痕的镜面，从而避免假相，揭示材料的真实组织。以下是对金相制样抛光攻略及难点的介绍：

抛光方法

机械抛光：通过抛光机上抛光织物和抛光微粉与试样的摩擦作用，将磨面抛成光亮无痕的镜面。这是*常用的抛光方法。

电解抛光：利用电解原理，通过阳极溶解去除金属表面的杂质，达到抛光效果。

化学抛光：通过化学反应去除金属表面的杂质，适用于复杂形状的零件。

抛光步骤

润湿抛光布：启动电源，往抛光盘中心加水润湿抛光布，抛光布的湿润状态为拿起试样，试样表面肉眼可见有变干的现象为佳，此时关闭电源。抛光布太湿，不利于抛光剂的黏附，导致抛光效果打折扣，使试样中的硬质相呈现浮雕；抛光布太干，抛屑不容易被离心力带走且试样容易发热，易导致组织变形且脏污黏附在试样表面。

加抛光剂：若使用抛光膏，则将抛光膏均匀抹在湿润抛光布的半径1/3至1/2处（建议在抛光布上画圈或十字，启动抛光盘5秒左右关闭电源），涂抹方式和用量根据习惯而定。若使用抛光液，每次加液前B须摇晃洗瓶或杯子，确保抛光液混合均匀，少量多次在抛光盘中心附近不断加入抛光微粉乳液。

抛光：启动抛光盘，拿起试样，先在抛光盘靠中心位置轻轻接触抛光布，然后再均匀地轻压在抛光盘上，注意磨痕应与抛光盘旋转切线方向垂直，将试样由抛光盘中心至边缘缓慢移动，如果允许可以并做轻微逆抛光盘转动。抛光过程中以少量多次加水来保证抛光布湿润状态。抛光后期，试样表面无划痕后，可以进行1分钟左右水抛（直接加水冲洗干净抛光布，然后抛光过程中只加较多的水），这样会使表面更加干净。整个抛光时间不建议超过5分钟，抛光时间久，容易产生抛痕、小黑点、甩尾、表面发灰黑色、浮雕等不良现象。

表面清理：在抛光过程中抛光布变干需拿起试样加水，此时拿起试样观察并用酒精棉球擦拭，确保试样表面干净状态再进行抛光。

抛光介质

抛光布：

长绒抛光布：适用于硬黑色金属快速抛光。

中短绒抛光布：适用于精抛。

微/无绒抛光布：适用于粗抛。

发泡材料抛光布：适用于精抛，抛光平面性好，浮凸小。

抛光剂：金刚石具有高硬度、高抛光速度，能用于大部分材料的抛光制备。常用粒度范围在0.25μm~15μm，根据试样材料的不同，有水基、油基及乙醇基可供选择。对于较软或抛光要求较高的试样，可选用0.3μm以至0.05μm的氧化铝或二氧化硅抛光液。

抛光难点及解决方法

抛光布的选择：不同的材料需要选用相应的抛光布。硬、低回弹抛光布抛光效率高，平面性好，不易浮凸；软、弹性好的抛光布吸震性好，适合精抛，去除微小划痕。

抛光剂的使用：抛光剂的使用量和浓度需要适中。喷洒太多会造成不必要的浪费，金刚石也容易镶入样品内，造成抛光面质量不佳；喷洒太少，划痕较难去除，抛光时间较长，导致试样发热或表面变形，使抛光面变得灰暗且有黑斑。

抛光时间的控制：抛光时间不宜过长，以免长时间抛光使样品表面金属变形及抛出麻点。

抛光压力的控制：抛光时压力要适中，且随着抛光时间增长，接触压力应随之变小。压力太大可能导致试样表面产生划痕或变形。

抛光方向的控制：试样磨痕方向应与抛光布线速度方向垂直，以防止钢中夹杂物及铸铁中的石墨产生拖尾现象。

理想抛光面

平滑光亮、无划痕、无浮雕、无塑性变形、无非金属夹杂物脱落。

总之，金相制样抛光是一个复杂而精细的过程，需要掌握正确的抛光方法和技巧，并严格控制各项参数和条件才能获得理想的抛光效果。