简单三个部分内容，告诉你你不知道的天津金相抛光机的使用技巧

①天津金相抛光机的技术基础要求

抛光操作的关键是要设法得到ZUI大的抛光速率，以便尽快除去磨光时产生的损伤层。同时也要使抛光损伤层不会影响ZUI终观察到的组织，即不会造成假组织。这两个要求是矛盾的。前者要求使用较粗的磨料，以保证有较大的抛光速率来去除磨光的损伤层，但抛光损伤层也较深，后者要求使用很细的材料，使抛光损伤层较浅，但抛光速率低。解决这个矛盾的很好的办法就是把抛光分为两个阶段进行。先是粗抛，目的是去除磨光损伤层，这一阶段应具有ZUI大的抛光速率，粗抛形成的表层损伤是次要的考虑，不过也应当尽可能小；其次是精抛（或称终抛），其目的是去除粗抛产生的表层损伤，使抛光损伤减到ZUI小。（这段的描述很到位，只可惜，后面的水准陡降。）

②天津金相抛光机使用技巧

抛光时，试样磨面与抛光盘应平行并均匀地轻压在抛光盘上，注意防止试样飞出和因压力太大而产生新磨痕。同时还应使试样自转并沿转盘半径方向来回移动，以避免抛光织物局部磨损太快在抛光过程中要不断添加微粉悬浮液，使抛光织物保持一定湿度。

天津金相抛光机湿度太大会减弱抛光的磨痕作用，使试样中硬相呈现浮凸和钢中非金属夹杂物及铸铁中石墨相产生“曳尾”现象；湿度太小时，由于摩擦生热会使试样升温，润滑作用减小，磨面失去光泽，甚至出现黑斑，轻合金则会抛伤表面。

③天津金相抛光机使用转述控制

为了达到粗抛的目的，要求转盘转速较低，不要超过500r/min；抛光时间应当比去掉划痕所需的时间长些，因为还要去掉变形层。

粗抛后磨面光滑，但黯淡无光，在显微镜下观察有均匀细致的磨痕，有待精抛消除精抛时转盘速度可适当提高，抛光时间以抛掉粗抛的损伤层为宜。

变频调速已被理论和实践证明是"节能明显，功能丰富，天津金相抛光机性能稳定"的调速装置。根据不同的材料，抛光时需要选择合适的速度，得到好的效果。

为了在很短的时间内达到合适的试样制备效果，要采用合适的设备和正确的制备方法。认真地选用设备和辅助材料，以确保制样的每一步都达到预定目标，并能在消除前几步所造的划痕和变形的同时，仅产生很少的新划痕和变形。