有哪些常见的金相设备反差处理方法

　金相组织反射效果差别有必要至少为百分之10以上时，效果反射不同强度的光而被观察到，然而，抛光后的试样表面因为入射光线简直均匀地被反射回来而不能显现金相组织。因此，为了看清楚，有必要将组织造成反差。为得到这种反差，试样通常需求进行金相进行处理，常用的处理办法包含：化学浸蚀、电解浸蚀。

　　1.化学浸蚀

　　纯金属及单相合金的化学浸蚀是一个化学溶解的进程。因为晶界上原子排列不规则，具有较高自由能，所以晶界易受腐蚀而呈凹沟，使组织显现出来，在显微镜下能够看到多边形的晶粒。若腐蚀较深，则因为各晶粒位向不同，不同的晶面溶解速率不同，腐蚀后的显微平面与原磨面的视点不同，在笔直光线照射下，反射进入物镜的光线不同，可看到明暗不同的晶粒。

　　多相合金的化学浸蚀，在腐蚀进程中腐蚀剂对各个相有不同程度的溶解。有必要适用适宜的腐蚀剂，如果一种腐蚀剂不能将全部组织显现出来，就应采取两种或很多的腐蚀剂依次腐蚀，使之逐步显现出各相组织，这种办法也叫挑选腐蚀法。另一种办法是薄膜染色法。此法是使用腐蚀剂与磨面上各相发作化学反响，构成一层厚薄不均的膜(或反响沉淀物)，在白光的照射下，因为光的干与使各相出现不同的颜色，然后到达辨认各相的目的。

　　2.电解浸蚀

　　电解浸蚀是将抛光试样浸入适宜的化学试剂的溶液中(电解浸蚀剂)，通过较小的直流电进行浸蚀。电解浸蚀作业电压和作业电流通常较小，作业电压一般在2~6V之间，作业电流约0.05~0.3A/cm2。

　　电解浸蚀首要用于化学稳定性较高的合金，如不锈钢，耐热钢，镍基合金等，这些合金用化学浸蚀很难得到明晰的组织。

　　稳定电势浸蚀通常电解质中浓度改变而有不同电流负荷，致使试样电势常常改变，用电势稳定器使电势保持不变，就能够得到其它浸蚀办法所不能得到的明晰的反差。

　　恒电位蚀刻堆积首先要确认某种金属在某一电解液中的及化曲线，依据及化曲线选取适宜的蚀刻电位，然后依据合金中各相的成膜速率不同，使用恒电位仪使该金属在这一外加恒电位效果下完成全部的蚀刻堆积进程。因为各相晶格能不同，在必定电位下成膜速度不同，膜厚不同，因此出现了不同干与色。